阿斯麦公司 (ASML.US) 2026年第二季度业绩电话会
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会议摘要
ASML优化了容量和需求平衡，增强了定价策略，并投资于高NA EUV系统，目标是在高级逻辑和DRAM强大的市场动态的推动下，实现30% 的容量2028年增长，从而实现稳健的财务业绩和增长预测。
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阿斯麦2026年第二季度财务业绩及未来展望ASML公布2026第二季度财务业绩，强调公司业绩、市场环境和未来预测。此次电话会议由投资者关系部牵头，以首席执行官和首席财务官的见解为特色，讨论全球行业趋势中的关键成就和战略方向。
一家领先科技公司2026第二季度财务回顾和第三季度指导该公司报告第二季度2026净销售额为93亿欧元，超过了预期，这是由于安装的基础管理销售增加所致。Q3 guidance预测净销售额在35欧元至370亿欧元之间，最新的全年销售前景为45欧元至460亿欧元。第二季度净收入为19亿欧元，税率为17.5% 欧元，支付每股普通股股息7.5欧元。该公司第二季度的现金头寸为76亿欧元，完成了11亿欧元的股票回购。
强劲的需求和供应链效率推动了光刻系统的增长由于强劲的客户需求以及改善的供应链和制造能力，该公司提高了全年指导。包括高级逻辑和DRAM在内的关键领域正在推动大量资本支出和产能扩张。该公司预计今年与内存相关的净系统销售额将增长75% % 以上，而Na EUV系统的出货量将超过65个。2027和2028的产能计划包括30% 增加低Na EUV和浸没系统，反映出强劲的订单势头和客户需求预测。
Ina UV技术进步和AI需求影响光刻解决方案对话强调了Ina UV技术的进步，其与大批量制造的集成，以及人工智能在先进逻辑和DRAM中不断增长的需求，需要更复杂的光刻解决方案。
半导体工具中增强价值一致性的定价调整讨论低端系统的定价调整是否可以更好地与它们为客户提供的价值保持一致，同时考虑客户反馈和经济效益。
先进光刻系统的成本效益和成熟度对话讨论了新光刻系统的成本效益和成熟度，强调了实现平台成熟度对Inna提供优于现有技术的优势的重要性。它强调英特尔的进步是一个积极的指标，并提到low a工具的生产率不断提高，由于当前产品对客户的高价值，它提供了定价的灵活性。
订单履行的时间取决于客户交货时间和需求动态订单的履行取决于客户需求和不同的交货时间，尽管具体日期取决于各个客户的情况，但明显的动态会影响时间。
优化现有洁净室空间以提高生产能力讨论了通过最大化当前洁净室设施来提高产量的策略，强调短期改进和运营效率而不扩大物理空间。
投资者关系: 与金融分析师的问答环节金融分析师收到投资者的问题，促进了关于公司业绩和战略的讨论。
面向2027需求的产能扩张与供应链优化对话讨论了提高生产能力和优化供应链的策略，以满足对先进工具2027年日益增长的需求。关键点包括30% 容量增加，专注于EUV工具组合改进，以及利用已安装基地的升级包。对话强调与客户需求的同步，并在不影响产品质量或灵活性的情况下优化现有的洁净室空间。
EUV光刻系统的容量扩展和需求预测对话讨论了公司的产能扩张战略，以满足波动的需求，重点是根据强劲的需求信号为未来的订单做准备。它还强调了产品组合向高利润模式的转变，预计来年毛利率将产生积极影响。
对先进内存技术的强劲需求推动了投资和生产规划对话强调了来自客户的强劲需求信号，促使人们对生产能力的提高进行调查，特别是对HBM和DDR等先进存储技术。对话还谈到了由于价格动态而导致的产品优化的转变，强调了技术进步和销量增长在推动市场增长方面的作用。
混合效应和销量增长推动的第三季度asp和毛利率改善分析对话讨论了导致第三季度第四季度asp和毛利率提高的因素，包括EUV和浸没工具的积极混合效应，由于更好的定价而导致的更高asp，强劲的安装基础业务增长以及数量增加导致更好的固定成本覆盖范围。
电子工具在UV和EUV市场的主导地位和利润增长前景讨论的重点是由电子工具和SDF工具的有利组合推动的毛利率的预期增长，电子工具预计将在50% 的市场中占据主导地位。对话还强调了浸没和EUV技术对高利润扫描仪产品的积极影响，表明利润率增长前景乐观。
分析业务增长驱动因素: 数量效应、安装基数和升级业务对话讨论了预计企业将如何增长30% %，并将其归因于数量效应和固定成本覆盖范围。已安装基础业务的服务组件由于其与已安装基础大小的相关性而预计会很强大。此外，随着客户寻求提高生产率，升级业务预计将保持强劲，尤其是在当前的市场环境下。分析表明，产能扩张的市场前景看好，这可能会对毛利率产生积极影响。
EUV生产力、覆盖改进和系统升级: 提高客户价值和能力讨论了EUV生产力的提高，覆盖改进和系统升级，强调了它们对客户的价值和收入增长的潜力，以及通过工具升级和新产品开发解决容量需求的策略。
洁净室扩建和WFE趋势下的增长前景讨论的重点是该公司在2027 2028的增长潜力，受洁净室容量增加和需求转向高级DRAM和逻辑的影响，影响致命强度和紫外线使用。该公司强调其对客户需求的贡献，而不直接评论WFE趋势。
高Ma技术采用: 逻辑和内存领域的英特尔与DRAM客户对话讨论了DRAM客户在逻辑领域成为与英特尔相比更大的高Ma技术市场的潜力。虽然英特尔是第一个实施该技术的公司，但logic和DRAM都被视为未来采用的有力候选者，因为它们转向了多模式Na。DRAM机会的数量和重要性得到了认可，但预计客户规模不会发生明确的变化。
高技术制造业的产能扩张与定价权讨论了提高生产能力的时间表和步骤，强调了机舱优化，减少周期时间和供应链协作。还解决了由于价值和客户需求增加而导致更高asp的潜力，这表明随着时间的推移，定价能力有所提高。
在半导体工具过渡中，客户对升级的偏好与购买新系统的偏好对话讨论了客户在过渡到更先进的半导体制造技术时，如何在升级现有的E平台和购买新的F系统之间进行选择。客户优先考虑速度和效率，F系统特别适用于1.4 nm及以下工艺。对话强调了工具成熟度和容量的重要性，客户对升级和新采购表现出强烈的需求，以在不停机的情况下维持生产。
审查2026的高NA UV系统假设讨论的重点是更新有关高NA UV系统的假设，特别是工具的数量，质疑4到5的范围是否仍然适用于审查2026年。
ASML的经营杠杆和制造足迹扩张战略对话涵盖了ASML的重点，即管理运营费用以提高杠杆率，探索成熟的DNA平台的潜力，以及计划建立一个新的园区以提高未来的能力。它强调了提高RD效率的策略以及用于不同光学器件的工具的不可替代性。
要点回答
Q：今天ASML电话会议的主题是什么？
A：今天ASML电话会议的主题是ASML holdings 2026第二季度财务业绩的介绍。
Q：2026年第二季度，ASML的主要财务成就是什么？
A：2026年第二季度，ASML的净销售额为93亿欧元，其中EUV系统的净销售额为38亿欧元，非EUV系统的净销售额为28亿欧元。毛利率高于预期，运营费用低于预期。实际税率为17.5%，净收入为19亿欧元，每股收益为7.59欧元。
Q：第三季度和2026年全年净销售额的预期范围是多少？
A：ASML预计第三季度的总净销售额将在25欧元至270亿欧元之间。对于整个2026年，该公司已更新其指导方针，预计总净销售额在45欧元至470亿欧元之间。
Q：关于总净销售额和毛利率的完整2026年的更新预测是什么？
A：更新后的全2026年预测显示，总净销售额在45欧元至470亿欧元之间，预计毛利率在54% 至56% 之间。
Q：是什么推动了客户对ASML产品的强劲需求？
A：客户对ASML产品需求的强劲势头是由持续强劲的终端市场需求推动的，导致客户积极增加其前沿节点的产能。这得益于高级逻辑和DRAM领域的强大动力，客户签订了长期协议以增加大量容量。
Q：半导体市场逻辑部分的强劲需求如何反映在ASML的业务中？
A：通过光刻强度的增加和对高级光刻的更大需求，逻辑部分的强劲需求反映在ASML的业务中。与Advanced logic foundry相关的净系统销售额预计今年将增长超过250亿欧元。
Q：与内存相关的净系统销售的预期增长数字是多少？
A：与内存相关的净系统销售的预期增长超过75% %，这得益于对晶圆厂扩展的大量投资，提高DRAM光刻强度以及计划建造多个大型晶圆厂。
Q：安装基础管理销售的预期增长是多少？
A：受EUV安装基础不断扩大的服务收入以及客户对性能和生产力升级的需求的推动，安装的基础管理销售预计今年将超过脚本。
Q：持续强劲的需求对ASML 2027和2028的产能计划有何影响？
A：持续强劲的需求促使ASML调查2028的进一步30% 产能增加，以及2027的30% 产能增加，强劲的需求预测促使这些计划。
Q：ASML的技术路线图正在取得什么进展，特别是iNA技术？
A：ASML在iNA技术方面取得了良好的进展，继续与客户密切合作，以证明其在流程和技术路线图中的价值。该技术的成熟度正在提高，以满足大批量制造的要求，英特尔在英特尔Ed process节点上使用ASML EUV技术来生产其英特尔酷睿休战免费处理器的子集。
Q：低端系统的价格调整是否有余地，以确保它们与提供给客户的增量价值保持一致？
A：没有具体提及低端系统的定价调整。但是，演讲者暗示，随着INA平台达到适当的成熟度 (之前在2018-2019中讨论过)，定价逻辑将成立，这意味着INA的成本将比现有技术更具优势。此外，lowNA工具生产率的持续提高有望为未来潜在的价格改善铺平道路。
Q：ASML计划如何提高低NA工具的生产率，这对未来的定价意味着什么？
A：ASML计划提高低NA工具的生产率，作为其实现潜在价格改进战略的一部分。生产力的提高为他们提供了一个强大的定价改进跑道。演讲者还指出，与过去相比，当前环境为定价提供了更大的灵活性，并且ASML通过根据提供给客户的价值继续提高生产率来在此基础上执行。
Q：影响定价调整时机的因素有哪些？ASML如何管理长订单提前期？
A：定价调整的时间受到与客户的订单情况和订单提前期的影响，可能会有所不同。ASML通过努力提高产量和优化现有洁净室空间来管理长订单交货时间。他们对通过优化现有足迹来实现上述数字的能力充满信心，并将继续执行并与客户需求保持同步。
Q：明年产能增加和供需平衡的含义是什么？
A：增加运力的含义是，ASML有望在不减少运力的情况下满足需求。需求和供应之间的平衡允许额外的30% 增长，使ASML与客户要求保持一致。ASML愿意进一步检查供应链，看看是否可以在需要时增加更多的产能，反映客户需求和ASML供应能力之间的动态。
Q：ASML优化现有洁净室空间的方法是什么？它如何影响容量和工具组合？
A：ASML优化现有洁净室空间以实现产能增长的方法是基于与客户需求保持同步并继续增加产量。ASML计划明年推出的工具组合将与今年不同，重点是EUV技术和不同的子类型。工具组合的这种变化预计将导致产能的约45% 提高，此外还将对装机基础进行升级，这也有助于产能的增长。
Q：EUV工具的需求可见性和容量规划的当前状态是什么？
A：目前的状况表明，虽然有能力满足EUV工具的波动需求，但需求尚未完全稳定，与客户的讨论正在进行中。短期能见度较好，但由于强劲的市场动态和潜在的未来需求，长期承诺仍不确定。
Q：是否有能力满足当前和未来对EUV工具的需求？
A：这种能力是为了满足当前和预期的未来对EUV工具的需求，尽管需求仍然受到波动的影响，客户尚未将所有信号转化为正式订单。
Q：110单位目标的订单量和可见性的状态是什么？
A：EUV工具的订单量很大，由于来自客户的需求信号非常强烈，因此正在积极调查110单位的目标。虽然预计28nm节点会有大量订单，但尚未确认，这将取决于客户的确认，这些确认尚未正式形成订单。
Q：哪些因素影响了对HBM的需求，以及它如何影响内存增长预测？
A：对HBM的需求是由HBM和DDR的销量增加共同推动的，由于DDR的强劲价格点，产品组合转向HBM。这种转变，以及先进节点上紫外线和浸没层数量的增加，有助于预测2026的内存增长。
Q：为什么在手机上验证有关EUV和沉浸工具指导的数字具有挑战性？
A：验证手机上的数字具有挑战性，因为精确的数字需要对各种因素进行详细分析，包括混合效果以及为EUV和浸没工具提供的具体指导。该指南提供了混合效应的帐户，旨在帮助分析师了解未来时期的预期收入和毛利率表现。
Q：关于低Na工具的未来组合及其对价值的贡献，可以预期什么？
A：虽然没有提供具体细节，但提到明年的产品组合可能主要由EUV工具组成，其中大量的E工具捕获了50% 以上的价值，与今年甚至今年下半年相比，有助于改进组合。
Q：EUV工具组合的预期变化及其对明年毛利率的影响是什么？
A：明年，与今年和本年下半年相比，EUV工具的组合预计将有所改善。虽然没有提供明年毛利率的具体指导，但预计这些工具将主要由EUV组成，E工具的更大份额将获得超过50% 的价值，有助于更好的组合和提高毛利率表现。
Q：是什么因素推动了公司业务的增长？
A：公司业务的增长是由销量的30% 增长和已安装基础业务的强大服务组成部分推动的，特别是由于寻求生产力的客户。升级业务在当前市场环境下也非常强劲。
Q：生产力和覆盖改进预计将如何影响收入和定价？
A：生产率的提高和叠加改善预计将有助于收入增长，同时也会影响定价。吞吐量提高与平均销售价格 (ASP) 之间存在很强的相关性，客户需要为生产力升级和附加价值 (例如覆盖改进和成像质量) 付费。
Q：在客户处升级当前车队配置的潜力是什么？
A：升级当前车队配置的潜力很大，因为客户强烈需要增加产能。由于洁净室容量有限，因此重点是升级现有工具。ASML正在开发升级产品，这些产品可以在其UV和浸没系统的不同版本中实施，并且市场上对这些产品的接受度很高。
Q：洁净室可用性的预测2027年和2028如何影响公司的增长？
A：对更多洁净室空间和绿地扩建2027年和2028的预测预计将对公司的增长产生积极影响。这可能会导致新投资的产能增加和限制减少，这可能导致公司的增长超过WFE (全球设备预测)。
Q：公司的增长会超过WFE 2027年和2028吗？
A：该公司没有直接评论WFE，但相信他们目前的计划和脚本数量，他们正在为他们观察到的需求做出贡献。他们希望随着行业的发展而增长，但没有对超过WFE做出具体预测。
Q：在逻辑之前，DRAM集团能否成为高Ma技术的更大客户？
A：虽然目前尚不清楚DRAM集团是否会在logic之前成为高Ma技术的更大客户，但随着时间的推移，这两种技术都有望转向多模式天真，这对logic和DRAM都有利。英特尔正在实施这项技术，虽然这两个行业都被视为很好的候选者，但客户规模没有明确的变化。
Q：做出决定后，容量增加需要多长时间才能生效？
A：在做出决定后，产能增加生效所需的时间包括释放用于输出的腔室，确保所有腔室专用于生产，并减少周期时间。ASML正在与供应链合作，以利用过去对长交货时间项目的投资，并优化现有产能的使用。
Q：演讲中提到的明年的预计移动速度和增长百分比是多少？
A：明年的预计移动率高于年初的移动率，公司不断逐季提高移动率。该计划的最终结果是明年的预计30% 增长以及对2028潜在30% 增长的调查。
Q：随着公司增加产能和增加成本，是否有可能在类似的基础上实现更高的asp？
A：该公司认为，由于目前对客户的高价值主张以及在该价值中占据更大份额的潜力，它具有更好的定价能力。随着时间的推移，随着公司增加产能和增加成本以满足客户需求，这可能会导致更高的类似asp。
Q：客户如何选择升级现有的E平台或购买新的F系统？
A：客户选择购买最快的工具，这导致了向新的38E系统的迁移。他们正在升级现有系统，因为它们采用不同的技术，并预计将来与较新的节点 (如2纳米及以下) 兼容。升级和更快的工具都有很高的需求。
Q：公平地说，F更倾向于1.4或低于2nm，如果2nm节点保持强劲，客户是否更愿意购买新工具而不是降低生产线？
A：由于与2nm节点的时序匹配，工具F将用于高达1.4nm的节点。该公司允许E和F产品之间的 “混合和匹配”，这意味着客户不会看到成像覆盖的差异，但将有一个更快的工具。因此，如果需要200nm的更多容量，F工具将是一种选择。
Q：预计2026年识别的高NA UV系统数量的更新假设是什么？
A：预计2026年将有4到5个工具得到认可，目前仍在审查中。
Q：正如演讲者所暗示的，未来增量批量利润率的目标是什么？
A：该公司没有量化指导，但它一直很好地管理运营支出，并相信目前的研发团队有更多的价值和创新。通过之前讨论的重组，该公司预计将提供一个积极的路线图，这将导致未来几个季度和几年的运营杠杆改善。
Q：考虑扩大制造足迹需要什么，当前情况对需要供应的客户意味着什么？
A：该公司的重点是通过在新校区建设和破土动工，主要在当前参数范围内增加容量。DNA平台的成熟可能成为未来容量的潜在选择。截至目前，该公司不打算扩大制造足迹，以满足眼前的需求。当前的情况可能会导致迫切需要供应的客户更快地采用高NA工具。
